產(chǎn)品展示NEWS CENTER
在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學(xué)的管理促進企業(yè)迅速發(fā)展首頁-產(chǎn)品展示-Leica 電鏡制樣系統(tǒng)-徠卡離子束研磨-徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀
產(chǎn)品型號:
簡要描述:徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀進行離子束切割是一項適用于切割硬的,軟的,多孔的,熱敏感的,脆的和/或非均質(zhì)多相復(fù)合型材料,獲得高質(zhì)量切割截面,以適宜于掃描電子顯微鏡(SEM)微區(qū)分析(能譜分析EDS,波譜分析WDS,俄歇分析Auger,背散射電子衍射分析EBSD)和原子力顯微鏡(AFM)分析。
廠家實力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
PRODUCT CATEGORY詳細介紹
新版徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀注重實用性的方式將性能和靈活性理想融合, 切割速度翻倍,根據(jù)您的應(yīng)用需求提供五種不同的載物臺供您選擇,實用性得到進一步提升。
徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀主要優(yōu)勢
1:SiC 研磨紙的橫切面 l
2:膠合板的橫切面 l
3:-120°C 條件下制備的同軸聚合物纖維 (溶于水) l
4:通過 Leica EM TIC 3X (配旋轉(zhuǎn)載物臺) 處理展現(xiàn)的油頁巖 (納米孔),總樣品直徑為 25 mm
可復(fù)制的結(jié)果
Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面,用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。
使用 Leica EM TIX 3X,您幾乎可以在室溫或冷凍條件下,對任何材料實現(xiàn)高品質(zhì)的表面處理,盡可能顯示樣品近自然狀態(tài)下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
效率
對于離子束研磨機的效率來說,真正重要的是同時具備出色的品質(zhì)結(jié)果和高產(chǎn)量。與前代版本相比,全新版本不僅切割速度提高了一倍,其*的三離子束系統(tǒng)還優(yōu)化了制備質(zhì)量,并縮短了工作時間。一次可處理樣品多達 3 個, 并可在同一個載物臺上進行橫切和拋光。
工作流程解決方案可安全、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。
靈活的系統(tǒng) — 隨時滿足您的需求
憑借可靈活選擇的載物臺,Leica EM TIC 3X 不僅是進行高產(chǎn)量處理的理想設(shè)備,還適用于委托檢測的實驗室。根據(jù)您的需求,可選擇以下可互換的載物臺對 Leica EM TIC 3X 進行個性化配置:
• 標準載物臺
• 多樣品載物臺
• 旋轉(zhuǎn)載物臺
• 冷卻載物臺或
• 真空冷凍傳輸對接臺
用于制備標準樣品、高產(chǎn)量處理,以及在低溫條件下制備對高溫異常敏感的樣品,例如聚合物、橡膠或生物材料。
環(huán)境控制型工作流程解決方案
憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對接臺接口,可為易受環(huán)境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程,此類樣品包括生物材料、地質(zhì)材料或工業(yè)材料。
隨后,這些樣品會在惰性氣體/真空/冷凍條件下,被傳輸至我們的鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)。
標準的工作流程解決方案 — 與 Leica EM TXP 產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng)。
在使用 Leica EM TIC 3X 之前,通常需要進行機械準備工作,以便盡可能接近感興趣區(qū)域。Leica EM TXP 是一種*的標靶面拋光系統(tǒng),開發(fā)用于樣品的切割和拋光,為 Leica EM TIC 3X 等儀器進行后續(xù)技術(shù)處理做好充分準備。
Leica EM TXP 經(jīng)專業(yè)設(shè)計,利用鋸切、銑削、研磨和拋光技術(shù)對樣品進行預(yù)制。 對于需要精準定位以及難以制備的挑戰(zhàn)性樣品,它能提供出色的結(jié)果,令處理變得輕松簡單。
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